SVcFUR-RDは高度の研究開発や試作プロジェクト用に開発された横型CVD装置です。
量産装置の主要な特徴を保ちながら、半導体、太陽電池、MEMS、その他の
ナノテクノロジーにおけるプロセス開発や薄膜成長のために最適な設計となっています。
SVCSの設計技術により、高効率、スモールフットプリント、CoO低減と同時に
高いプロセス自由度が実現されています。
・アニール、拡散、酸化、窒化、ALDモードなど
・容易な操作性・メンテナンス性・成膜
・高い成膜均一性
・ウェハーサイズ1~6インチ
・真空プロセス及び常圧プロセスに対応
・3ゾーンまたは5ゾーンヒーターコントロールで400℃~1200℃に対応
・自社設計の最新制御システムでプロセス&安全ソフトを搭載
・高真空&低真空プロセス対応(10Torr及び1000Torr)
・ウェハー25枚処理/1LOT
・4チューブまで増設可能
・プラズマCVD用RF電源(オプション)
・マニュアルローダー
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SVpFUR-FPは量産用途向けの拡散炉、LP-CVD、PE-CVDです。
半導体製造、太陽電池製造、MEMSのさまざまな分野に使用されております。
半導体産業で求められる品質を実現してきた長い経験を太陽電池の製造に活かしています。
・ウェハーサイズ:4~8インチ 及びカスタムサイズ
・自社独自開発の最新型モジュール制御システム
・さまざまなプロセスに対応可能な最大4段チューブ
・チューブ毎に高度水冷システムを搭載し、隣接したチューブでの熱干渉はありません。
・容易なメンテナンス性
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SVconCSシステムはハードウェア、ソフトウェア、入出力インターフェイスが
一体になった制御システムです。
SVconCSはSVCS社のCVD装置に使用される以外に他社様のさまざまな
横型、縦型の熱反応炉に搭載可能な制御システムになっています。
・ユーザーインターフェイスは10.4インチTFTカラータッチスクリーンを採用
・プラットフォームは高い信頼性のLinuxオペレーティングシステムを採用
・レシピ管理、装置変数、装置イベントなどを記録収集することが可能
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SVCS社ではその他にガスシリンダーキャビネット、燃焼システム、排ガス処理装置
なども製造販売しております。
お気軽にご相談ください。
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